2月14日,海淀区发布《中关村科学城集成电路流片补贴申报指南》(简称《指南》),为海淀区集成电路设计企业提供流片补贴,最高可达1500万元。
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《指南》明确了不同流片类型的补贴标准:
多项目晶圆(MPW)首轮流片:
境内企业:补贴比例不超过流片费用的50%,单个企业上限300万元。境外企业:补贴比例不超过流片费用的30%,单个企业上限200万元。
工程产品首轮流片(全掩膜):
境内先进制程(14nm及以下):补贴比例不超过流片费用的30%,单个企业上限800万元。境内成熟制程(14nm以上):补贴比例不超过流片费用的20%,单个企业上限500万元。境外先进制程(14nm及以下):补贴比例不超过流片费用的15%,单个企业上限500万元。
申报单位需在规定时间内完成流片,并已执行完毕流片合同,且在海淀区开展产业化工作。 企业可同时申报多个符合条件的产品,但年度最高补贴金额不超过1500万元。
此次补贴旨在支持海淀区集成电路产业发展,鼓励企业加大研发投入,降低流片成本,助力集成电路产业高质量发展。 这与海淀区“1+X+1”现代化产业体系建设和《中关村科学城集成电路创芯引领行动计划(2024-2026年)》目标相契合。
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