本站 9 月 3 日消息,据韩媒 the elec 昨日报道,三星正对 tokyo electron (tel) 的 acrevia gcb 气体团簇光束(本站注:gas cluster beam)系统进行测试。tel 的 acrevia gcb 系统发布于今年 7 月 8 日,可通过气体团簇光束对 euv 光刻图案进行局部精确整形,从而修复图案缺陷、降低图案粗糙度。

业内人士认为 TEL 的 Acrevia 系统可起到与应用材料 Centura Sculpta 系统类似的作用,即直接对 EUV 曝光图案塑形,减少成本高昂的 EUV 多重曝光,进而缩短光刻流程并提升整体利润率。
此外 Acrevia 系统还可用于消除在 EUV 光刻错误中占约一半的随机错误,提升产品良率。
TEL 相关人士表示潜在客户确实正在进行 Acrevia 系统测试,该设备预计将首先用于逻辑代工而非存储器领域。
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此前三星电子已在 4nm 工艺上对应用材料的 Centura Sculpta 进行了测试,如今又测试 TEL 的设备,旨在加强两大半导体设备供应商间的图案塑形订单竞争。
以上就是消息称三星电子测试 TEL 公司 Acrevia GCB 设备以改进 EUV 光刻工艺的详细内容,更多请关注创想鸟其它相关文章!
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