光刻胶

10月26日，我国在光刻胶研究领域迎来重要进展！ 据《科技日报》报道，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及其合作者，创新性地采用冷冻电子断层扫描技术，首次在液相环境中实现了对光刻胶分子微观三维结构、界面分布及缠结行为的原位解析，并据此提出了一套可显著降低光刻缺陷的产业化改进方案。 该研究成果已…

☞☞☞AI 智能聊天, 问答助手, AI 智能搜索, 免费无限量使用 DeepSeek R1 模型☜☜☜ 随着全球半导体制造技术向2nm进程迈进，EUV（极紫外光）光刻胶无疑是其中最关键且难以替代的部分。近期，美国计划对日本的高端材料征收进口关税，这不仅为供应链竞争增添变数，也为材料市场格局带来潜在…