华虹宏力
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华虹宏力“降低栅源电容的方法”专利公布
上海华虹宏力半导体制造有限公司近日获得一项名为“降低栅源电容的方法”的专利授权,申请公布日为2024年12月10日,公布号为cn119108271a。 ☞☞☞AI 智能聊天, 问答助手, AI 智能搜索, 免费无限量使用 DeepSeek R1 模型☜☜☜ 该专利技术提出一种降低栅源电容的新方法。其…
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