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三星冲击高端代工新挑战：削减 High-NA EUV 光刻机采购、被曝中止和 ASML 合建研究中心
本站 8 月 20 日消息，韩媒 businesskorea 今天（8 月 20 日）发布博文，曝料称三星计划削减 high-na euv 采购规模，而且和 asml 联合创立研究中心项目也遇到诸多障碍。 修饰后内容： **,center>图源：ASML三星于 2023 年 12 月和 ASM…
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ASML国内展出两款新型光刻机：不高于110nm、4倍生产效率
11月7日，在第八届进博会期间，荷兰光刻巨头asml首次在国内展出了两款新型光刻设备——twinscan xt:260与twinscan nxt:870b。 需要特别指出的是，这两款设备并非用于传统意义上的芯片制造光刻环节，而是专门面向3D封装等先进封装技术领域的产品。 熟悉国内半导体产业链发展的业…
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EUV光刻机全球独一家 ASML竞争对手是谁：美国的不确定性
如今，能驾驭先进半导体工艺的企业屈指可数，尤其是在5nm及以下节点，EUV光刻机已成为不可或缺的关键设备。在这一领域，荷兰ASML已稳坐唯一供应商的宝座。 据荷兰财经记者Marc Hijink在其新书《Focus：The ASML Way》中披露，ASML的成功并非偶然，其背后的核心驱动力正是与台积…
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Rapidus 接收日本首台量产用 EUV 光刻机 ASML NXE:3800E
本站 12 月 19 日消息，日本先进逻辑半导体制造商 rapidus 宣布，其购入的首台 asml twinscan nxe:3800e 光刻机已于当地时间昨日在其北海道千岁市 iim-1 晶圆厂完成交付并启动安装。这也是日本境内首次引入量产用 euv 光刻设备。 Rapidus 首席执行官、日本…
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ASML与Imec战略合作，共同推动半导体研究
☞☞☞AI 智能聊天, 问答助手, AI 智能搜索, 免费无限量使用 DeepSeek R1 模型☜☜☜ 全球领先的半导体设备制造商ASML与享誉全球的比利时微电子研究中心Imec于3月11日宣布，双方将续签为期五年的战略合作协议，继续深耕半导体研究与可持续创新。 此次合作将重点关注硅光子学、先进存…
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ASML 技术高级副总裁：已携手蔡司启动 5nm 分辨率 Hyper NA 光刻机开发
6 月 27 日消息，asml 技术高级副总裁 jos benschop 在接受《日经亚洲》采访时透露，公司已与光学组件独家合作伙伴蔡司共同启动了面向 5nm 分辨率的 hyper na 光刻机研发工作。 目前使用的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系统搭载 High NA（0.55NA）光…
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ASML公布2025年度股东大会议程，并提名Karien van Gennip为新任监事会委员
☞☞☞AI 智能聊天, 问答助手, AI 智能搜索, 免费无限量使用 DeepSeek R1 模型☜☜☜ 阿斯麦（ASML）今日发布公告，宣布其2025年度股东大会（AGM）将于2025年4月23日（星期三）上午10:00在荷兰菲尔德霍芬的TWINSCAN礼堂举行。本次会议将采用线上线下混合模式，方…
