6 月 27 日消息，asml 技术高级副总裁 jos benschop 在接受《日经亚洲》采访时透露，公司已与光学组件独家合作伙伴蔡司共同启动了面向 5nm 分辨率的 hyper na 光刻机研发工作。
目前使用的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系统搭载 High NA（0.55NA）光学系统，分辨率为 8nm。更高的分辨率将有助于先进制程厂商减少曝光步骤，并提升光刻图案的精度。
Jos Benschop 表示，ASML 尚未为 Hyper NA 光刻设备设定明确的发布时间，但该项目的目标是进一步将 NA（数值孔径）提升至 0.7 或更高水平；实现 5nm 分辨率意味着 Hyper NA 系统将能支撑到 2035 年甚至更远的产业发展需求。
针对当前刚刚开始部署的 High NA 图案化设备，这位 ASML 高管指出，其大规模应用仍需时日，因为整个行业需要时间进行测试、验证并构建相应的生态系统；0.55NA 的光刻设备预计能够满足本十年内直至三十年代初期的产业需求。
以上就是ASML 技术高级副总裁：已携手蔡司启动 5nm 分辨率 Hyper NA 光刻机开发的详细内容，更多请关注创想鸟其它相关文章！
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