euv光刻机
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中国光刻胶领域取得新突破!首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片”
10月26日,我国在光刻胶研究领域迎来重要进展! 据《科技日报》报道,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及其合作者,创新性地采用冷冻电子断层扫描技术,首次在液相环境中实现了对光刻胶分子微观三维结构、界面分布及缠结行为的原位解析,并据此提出了一套可显著降低光刻缺陷的产业化改进方案。 该研究成果已…
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美国投行给中国光刻机落后ASML 20年原因:缺乏制造先进光刻扫描仪能力
9月3日,美国知名投资银行高盛发布报告指出,中国在先进芯片制造领域相较西方国家仍存在约20年的技术差距。 报告特别提到,中国光刻设备制造商与美国领先企业相比,技术水平至少落后两%ignore_a_1%以上。作为半导体生产流程中的关键环节,光刻技术已成为制约中国自主生产高端芯片的主要障碍。目前全球最先…
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国产半导体要展现硬实力!深圳宣布“中国版阿斯麦”新凯来有新惊喜
10月13日,备受瞩目的半导体行业动态持续升温。据深圳官方透露,在即将于本月举行的2025湾芯展上,被誉为“中国版阿斯麦”的新凯来(SiCarrier)将带来令人期待的新惊喜。 这一消息源自10月10日上午深圳市政府新闻办召开的新闻发布会。会上,深圳市发展改革委主任郭子平正式宣布,以“芯启未来,智创…
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半导体巨头EUV光刻机数量曝光:台积电唯一过百 日本2nm公司醒目
在半导体制造领域,工艺节点越先进,对光刻设备的要求也越高。尤其是5nm及以下制程的量产,几乎完全依赖EUV(极紫外)光刻机。目前全球范围内仅有ASML能够提供此类高端设备,因此台积电、三星、Intel等头部厂商均需向其采购。 那么,在这些行业巨头中,谁掌握的EUV光刻机数量最多?调研机构BOFA发布…