euv光刻机

10月26日，我国在光刻胶研究领域迎来重要进展！ 据《科技日报》报道，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及其合作者，创新性地采用冷冻电子断层扫描技术，首次在液相环境中实现了对光刻胶分子微观三维结构、界面分布及缠结行为的原位解析，并据此提出了一套可显著降低光刻缺陷的产业化改进方案。 该研究成果已…

9月3日，美国知名投资银行高盛发布报告指出，中国在先进芯片制造领域相较西方国家仍存在约20年的技术差距。 报告特别提到，中国光刻设备制造商与美国领先企业相比，技术水平至少落后两%ignore_a_1%以上。作为半导体生产流程中的关键环节，光刻技术已成为制约中国自主生产高端芯片的主要障碍。目前全球最先…

10月13日，备受瞩目的半导体行业动态持续升温。据深圳官方透露，在即将于本月举行的2025湾芯展上，被誉为“中国版阿斯麦”的新凯来（SiCarrier）将带来令人期待的新惊喜。 这一消息源自10月10日上午深圳市政府新闻办召开的新闻发布会。会上，深圳市发展改革委主任郭子平正式宣布，以“芯启未来，智创…

在半导体制造领域，工艺节点越先进，对光刻设备的要求也越高。尤其是5nm及以下制程的量产，几乎完全依赖EUV（极紫外）光刻机。目前全球范围内仅有ASML能够提供此类高端设备，因此台积电、三星、Intel等头部厂商均需向其采购。 那么，在这些行业巨头中，谁掌握的EUV光刻机数量最多？调研机构BOFA发布…