东方晶源
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东方晶源“电子束扫描成像中的干扰信号补偿方法、装置及电子设备”专利获授权
天眼查信息显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司近期获得了一项新专利，名称为“电子束扫描成像中的干扰信号补偿方法、装置及电子设备”，授权公告号为cn117011405b，授权日期为2025年3月14日，申请时间为2023年6月28日。 ☞☞☞AI 智能聊天, 问答助手, AI 智能搜索, 免费…
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东方晶源PanGen平台再添新成员 套刻标记优化工具PanOVL上线
当半导体制造工艺演进到22nm及以下节点时，随着多重图形技术的引入，对不同工艺层之间套刻（overlay）误差的要求变得越来越高。套刻测量技术可分为基于像面图像识别测量技术和基于衍射原理的dbo（diffraction based overlay）测量技术。相比于基于图像识别的方法，基于衍射的套刻误…
