光刻机
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曝中芯国际首款5nm光刻机正在测试:这将是中国企业的重要一步!



根据最新报道,中芯国际(SMIC)目前正在对一台由上海初创企业宇量昇(SMEE)生产的国产深紫外线(DUV)光刻机进行测试。据悉,这台光刻机采用了先进的浸没式技术,该技术路线与全球光刻机巨头ASML的主流产品相似。知情人士进一步透露,中芯国际测试的这台设备原生支持28纳米工艺,但正尝试利用多重曝光技…
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博众精工:出口美国业务占比小,加增关税对公司直接影响不大



☞☞☞AI 智能聊天, 问答助手, AI 智能搜索, 免费无限量使用 DeepSeek R1 模型☜☜☜ 近日,博众精工在接受机构调研时,就“关税的影响”等问题回应称,由于公司出口美国的业务占比不大,因此目前加增关税对公司的影响较小。 据悉,博众精工早在2011年成立的子公司——苏州博众智能机器人有…
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Intel确认18A工艺独家优化:没有外部客户 14A才会对外
10月11日,intel正式揭晓了其四年五代制程路线图中的关键一环——18a工艺,并同步发布了基于该工艺的两款芯片:面向消费市场的panther lake与专为服务器打造的clearwater forest。 其中,“A”代表埃米(Angstrom),标志着这一节点相当于1.8nm级别,被Intel…
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国产半导体要展现硬实力!深圳宣布“中国版阿斯麦”新凯来有新惊喜
10月13日,备受瞩目的半导体行业动态持续升温。据深圳官方透露,在即将于本月举行的2025湾芯展上,被誉为“中国版阿斯麦”的新凯来(SiCarrier)将带来令人期待的新惊喜。 这一消息源自10月10日上午深圳市政府新闻办召开的新闻发布会。会上,深圳市发展改革委主任郭子平正式宣布,以“芯启未来,智创…
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CPU的制程工艺从5nm迈向3nm,实际性能提升与价格涨幅是否成正比?



3nm相比5nm性能提升有限但成本激增,晶体管密度增70%、CPU性能提15%-25%、能效与AI算力改善明显,而台积电3nm代工涨价20%、设备研发成本飙升,高通获16%优惠涨幅、联发科承24%溢价,AI芯片商支撑高价,手机厂难转嫁成本,摩尔定律性价比红利消失。 芯片制程从5nm到3nm,性能提升…
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半导体巨头EUV光刻机数量曝光:台积电唯一过百 日本2nm公司醒目



在半导体制造领域,工艺节点越先进,对光刻设备的要求也越高。尤其是5nm及以下制程的量产,几乎完全依赖EUV(极紫外)光刻机。目前全球范围内仅有ASML能够提供此类高端设备,因此台积电、三星、Intel等头部厂商均需向其采购。 那么,在这些行业巨头中,谁掌握的EUV光刻机数量最多?调研机构BOFA发布…