光刻机

6 月 27 日消息，asml 技术高级副总裁 jos benschop 在接受《日经亚洲》采访时透露，公司已与光学组件独家合作伙伴蔡司共同启动了面向 5nm 分辨率的 hyper na 光刻机研发工作。 目前使用的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系统搭载 High NA（0.55NA）光…

☞☞☞AI 智能聊天, 问答助手, AI 智能搜索, 免费无限量使用 DeepSeek R1 模型☜☜☜ 尼康剑指半导体光刻市场龙头，计划于2028财年（2028年4月-2029年3月）推出全新ArF浸润式光刻系统。此举旨在挑战ASML的市场主导地位，并与ASML设备实现兼容。 尼康在2025年2月…

8 月 5 日消息，璞璘科技 prinano 近日宣布，已于 8 月 1 日成功向国内某特色工艺客户交付其自主研发的中国首台半导体级步进式纳米压印光刻（nil）系统——pl-sr。 在 PL-SR 系列设备的研发过程中，璞璘科技突破了喷墨涂胶工艺中的多项关键技术难题，实现了纳米级别的压印膜厚控制，达…

三星抢先布局1nm芯片工艺，力争超越台积电！据报道，三星电子已启动1nm（纳米）晶圆代工工艺研发，目标于2029年后实现量产。此举旨在弥补目前在2nm工艺等方面与台积电的差距，力图实现技术反超。 ☞☞☞AI 智能聊天, 问答助手, AI 智能搜索, 免费无限量使用 DeepSeek R1 模型☜☜☜…

10月26日，我国在光刻胶研究领域迎来重要进展！ 据《科技日报》报道，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及其合作者，创新性地采用冷冻电子断层扫描技术，首次在液相环境中实现了对光刻胶分子微观三维结构、界面分布及缠结行为的原位解析，并据此提出了一套可显著降低光刻缺陷的产业化改进方案。 该研究成果已…

☞☞☞AI 智能聊天, 问答助手, AI 智能搜索, 免费无限量使用 DeepSeek R1 模型☜☜☜ 4月17日，A股三大指数表现各异，沪指连续八个交易日上涨。截至收盘，沪指上涨0.13%，收报3280.34点；深证成指下跌0.16%，收报9759.05点；创业板指微涨0.09%，收报1908.…

8月31日消息，作为全球规模最大且技术最前沿的半导体代工企业，台积电在制程工艺上持续拉大与竞争对手的差距，但与此同时，其所承受的全球政治与供应链压力也日益加剧，逐渐深陷于复杂的国际格局博弈之中。 据悉，台积电最新的2nm制程工艺预计将于2025年底正式进入量产阶段，2026年起将全面扩大产能。除了在…

随着半导体製程技术持续演进，台积电预计将于2028年下半年突破2奈米关卡，并在同年启动1.4奈米晶圆的生产计划。据悉，台积电将为此新建四座晶圆厂，初期投资高达490亿美元。与此同时，日本新兴半导体企业rapidus也不甘示弱，传出将在2027年动工兴建同为1.4奈米制程的先进晶圆厂，并规划在同一基地…

11月7日，在第八届进博会期间，荷兰光刻巨头asml首次在国内展出了两款新型光刻设备——twinscan xt:260与twinscan nxt:870b。 需要特别指出的是，这两款设备并非用于传统意义上的芯片制造光刻环节，而是专门面向3D封装等先进封装技术领域的产品。 熟悉国内半导体产业链发展的业…